Nuwa 半导体工艺和器件仿真软件(TCAD)
分析半导体器件内部物理机理,优化工艺和器件设计,提高半导体器件的特性、产品研发效率和良率

器件仿真

GMPT, 2023/09/22

   Nuwa TCAD仿真工具的器件仿真功能基于有限元/有限体积方法,数值求解半导体漂移-扩散方程,以模拟半导体器件的光学和电学特性,分析和预测器件性能。它帮助工程师深入了解器件内部的复杂物理现象,可应用于先进CMOS、功率及射频器件、显示技术以及光电子器件研发等多个领域。

功能

   Nuwa TCAD仿真工具是一款通用的半导体工艺和器件仿真工具,它的器件仿真具有以下核心功能:

器件结构设置

  • 电极设置功能:添加欧姆接触和肖特基接触
  • 半导体金属界面条件设置:设置半导体和金属界面势垒高度
  • 器件结构显示:显示器件结构及其网格
  • 网格局部调整功能:调整局部网格密度、设置局部掺杂
  • 网格质量评价功能:评估网格质量

器件仿真——材料模型

   Nuwa TCAD软件器件仿真模型包含以下材料模型:

  • 碰撞离化: 描述了在高电场下材料中的碰撞离化过程,可用于HEMT、SBD、MOSFET等高压器件的击穿电压仿真
  • 缺陷:包含单能级、指数尾、高斯和均匀模型四种缺陷模型
  • 迁移率随温度、电场、掺杂、缺陷变化
  • Wurtzite材料极化、半极化及非极化模型:利用极化模型描述了III-V氮化物及其合金材料的自发极化效应,包括氮化镓、AlN、InN、InGaN、AlGaN、InGaAlN等
  • 自由载流子吸收
  • 有机材料特性
  • 4x4/6x6/8x8KP能带计算理论

器件仿真——结构模型

   Nuwa TCAD软件器件仿真模型包含以下结构模型:

  • 界面效应 在半导体/半导体、半导体/金属和半导体/绝缘体界面上,存在许多物理效应,包括界面陷阱、界面复合和界面固定电荷,这些效应对半导体器件的电学和光学性能有非常重要的影响。
    • 界面复合
    • 界面电荷
    • 界面缺陷
  • 隧穿效应 隧穿模型实现半导体器件中的量子隧穿输运效应,其中包括带内隧穿、带间隧穿和陷阱辅助隧穿(TAT)。
    • 带内隧穿
    • 带间隧穿
    • 缺陷辅助隧穿
  • 缺陷

器件仿真——器件模型

   Nuwa TCAD软件器件仿真模型包含以下器件模型:

  • 热电子辐射
  • ABC复合
  • 量子阱载流子输运(包含Type II)
  • EIM、BPM 侧模求解
  • 纵向模式求解
  • 光注入及多层膜光学传输
  • 自热及热传输
  • AC高频交流小信号分析‘
  • FDTD及光线追踪
  • Mini-band传输
  • 非平衡格林函数(NEGF)
  • 应力及应变

扫描设置

  • 平衡态扫描
  • 单扫描